[衛(wèi)生法規(guī)]初戴上頜局部義齒時(shí) 如果發(fā)現(xiàn)彎制的后腭桿離開腭粘...

原題:
[衛(wèi)生法規(guī)]初戴上頜局部義齒時(shí),如果發(fā)現(xiàn)彎制的后腭桿離開腭粘膜2mm，處理方法是

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P因子對(duì)其有穩(wěn)定作用是
答案：
C