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[衛(wèi)生法規(guī)]制作可摘局部義齒印模 選擇的托盤與牙弓內(nèi)外側(cè)應(yīng)有...
原題
:
[衛(wèi)生法規(guī)]制作可摘局部義齒印模,選擇的托盤與牙弓內(nèi)外側(cè)應(yīng)有多大間隙
流行病學(xué)中關(guān)于“分布”的概念是
A.一個相對穩(wěn)定的過程
B.一個定期變動的過程
C.一個動態(tài)變化的過程
D.一個不受環(huán)境因素影響的過程
E.一個僅受環(huán)境因素影響的過程
答案:
C
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[衛(wèi)生法規(guī)]制取牙列缺失印模 以下敘述哪項是錯誤的
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